这些新的自由基也处于高能状态，离子束刻蚀机钨丝非常不稳定，容易分解成小分子，产生新的自由基。这个过程一直持续到它分解成简单的、易挥发的小分子，这些小分子是稳定的，最终将污染物从金属表面分离出来。在这个过程中，自由基的主要作用是活化过程中能量星的转移。在自由基与表面污染物分子结合的过程中，会释放出大量的结合能，以释放的能量为驱动力，促使表面污染物分子发生新的活化反应。在等离子体的作用下激活污染物。
然而，离子束刻蚀机钨丝在反应室的中央，却有着数百万至数千万度、数亿度甚至更高的高温等离子体，从中辐射出高能粒子和各种频段的电磁波。 ..聚变反应堆还具有以下高能中子：和粒子等热核反应产物。这些粒子和辐射到达固体表面并产生各种形式的作用。在受控的热核实验装置和聚变反应堆中，这种等离子体-表面相互作用有两种影响。首先，这种相互作用导致一些不能参与核反应的杂质离开表面进入等离子体，造成污染。
除了所需的稳定性，聚焦离子束刻蚀深度P型半导体还具备以下条件： (1) 由于HOMO能级高，可与电极形成欧姆接触，空穴可顺利注入。 (2)具有很强的给电子能力。常见的有稠环芳烃如并五苯和红荧烯，以及聚合物如聚合物（3-己基）。噻吩），有机半导体可以通过等离子处理器中的等离子处理来活化和改性。通过使用等离子体对绝缘层表面进行修饰，使有机材料的沉积更加均匀光滑，大大提高了器件的迁移率和器件的功能。大大提高性能。
因此，聚焦离子束刻蚀深度在与强激光相关的研究领域出现了一个新名词，称为“高能量密度”。所谓“高能量密度”，就是将空间中的脉冲光聚焦在一个比较小的尺度上，持续时间也不断缩短。因此，激光的全部能量可以集中在一个很小的空间和时间尺度上，瞬间达到高强度。当然，总有一天，随着人们技术水平的提高，连续激光可以达到高强度，脉冲激光可能会失去研究和应用价值。
