1959年，美国电晕处理机品牌美国贝尔实验室的Martin Atalla和Dawon Kahng研制出第一个绝缘栅场效应晶体管(FET)。他们的成功因素是通过控制&ldquo；表面状态；电场可以渗透到半导体材料中。在研究热生长氧化硅层的过程中，他们发现在金属层(M)、氧化层（O绝缘）和硅层（S半导体）的结构中，这些&ldquo；表面状态；在硅及其氧化物的交界处会大大减少。
源于美国-德国30年，美国电晕处理机品牌等离子制造和研发技术由公司全资拥有品牌下等离子体设备研发、生产、制造技术，生产电子工业设备、工业自动化设备、研磨抛光设备、低温等离子体处理设备、等离子体灭菌设备、等离子体净化设备、等离子体美容设备、电源及相关配套设备，覆盖半导体、光伏、太阳能、PCB&FPCB等行业。。
与国外的发展相比，美国电晕机虽然国内在上述方面的研究较多，但水平相差较大，在实际应用中的差距更大。2.3高能等离子体表面涂层技术的现状与发展发展趋势该技术是为了增加表面材料的蜡反应，获得超凡性能的涂层。其核心是更有效地增强和控制阴极电弧等离子体的产生和作用，美国、日本和德国大力发展这项技术。
美国Hyun设计了一种新颖的表征高分子材料结晶度的方法[23]:通过观察等离子体处理后高分子材料表面接触角的变化来表征高分子材料的结晶度（如图3所示）。
美国电晕处理机品牌
