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混凝土表面改性剂

亲水性胶(混凝时如何去除亲水性胶体)亲水性胶印

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去除亲水性物质(混凝如何去除亲水性胶体)

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高硅光刻蚀选择性。在常温等离子体蚀刻中,去除亲水性物质副产物和聚合物残留物附着在图案的侧壁上,因此无法进行进一步的蚀刻。同时,这些副产物沉积在内表面上。蚀刻腔影响后续反应。因此,刻蚀速率随反应时间而变化,使得整个刻蚀过程非常不稳定,甚至会出现刻蚀终止现象。因此,室温蚀刻工艺需要额外的等离子清洗步骤。...

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