清洗方法:连续使用一段时间后,清洁所有的电极板和空心墙用无尘布(纸)蘸酒精保持腔壁干净。(2)使用观察窗观察放电腔的真空等离子表面处理器工作的时候员工。使用气蚀后，工业酒精去胶的正确方法观察窗的表面会有轻微的侵蚀，使观察窗变得模糊。清洁方法:用无尘布(纸)蘸酒精或丙酮清洗玻璃。。
等离子体表面清洗技术在IC封装领域的应用将越来越广泛:目前，酒精去胶的原理电子元器件的清洗，主要以等离子体清洗为主。传统的电子元件是湿洗,电路板上的一些组件,如晶体振荡器等,金属外壳,清洗后,很难干组件内的水分,用酒精,水和其他人工清洗,气味,清洗效率低,浪费劳动力成本。集成电路，或称IC芯片，是当今电子产品的复杂组成部分。现代的IC芯片包括印在芯片上并附在芯片上的集成电路。
表面形貌表明，工业酒精去胶的正确方法经等离子体活化处理后，树脂颗粒变小，玻璃纤维暴露，表面粗糙度增大。随着作用距离的减小，表面粗糙度增大。红外光谱显示等离子体活化处理后表面复合酯C - O键断裂,酯基规模降低,硝基,酮基,羧基,醇羟基的增加相应的表面极性的大小,范围的兴起,材料表面硝基的崛起,酮基,羧基,酒精中的羟基和其他基团的大小越少越好。等离子体表面处理技术的出现给塑料工业带来了创新。
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