等离子体产生的氧自由基非常活跃，上海低温表面等离子处理机原理很容易与碳氢化合物反应形成二氧化 碳。碳、一氧化碳和水等挥发物可去除表面的污染物。。等离子清洗剂主要按反应类型和激发频率分类。反应类型分类等离子体与固体表面之间的反应可分为物理反应（离子冲击）和化学反应。物理反应机理是活性粒子与被清洗表面碰撞。这将污染物与表面分离，并最终被真空泵吸入。
NiO / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3> Re2Q7 / Y-Al2O3> TiO2 / 7-Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 / Y-Al2O3 ≈ FeO3 / Y-Al2O3> Co2O2 / Y-Al2O3。
晶圆制造、pcb线路板和plasma在四氟化碳气体的应用一、晶圆制造plasma应用领域 在晶圆制造行业领域中光刻机运用四氟化碳混合气体开展单晶硅片的线路蚀刻，上海低温等离子电晕处理机原理plasma运用四氟化碳开展氮化硅蚀刻及光刻胶清除。 plasma运用纯四氟化碳混合气体或四氟化碳与O2互相配合的方式方法可对晶圆制造中的氮化硅开展微米级的蚀刻，运用四氟化碳与O2或氢气互相配合的方式方法可对微米级的光刻胶开展清除。
等离子体清洗机表面处理去胶的影响因：选频：频率越高，上海低温表面等离子处理机原理氧气就越容易离子化产生等离子体，电子的振幅小于平均范畴，电子与气体分子结构的碰撞几率降低，使弱电解速度降低。频率选择通常为13.56MHz和2.45GHz。功效输出：对于一定量的气体，输出功率大，活性微粒密度大，去胶速度快，但当输出功率提高到一定值时，耗能的活性离子到达饱和，再增加输出功率，去胶速度也是不明显。
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在塑料薄膜或纸面上镀极薄的金属铝，即形成镀铝膜或镀铝纸。等离子体是电离了的气体。电子、离子、中性粒子三个组分构成，在这些组分中，电子与离子的总电荷量基本相同，因而为电中性。电离等离子体中的电子和离子，在基材薄膜镀铝之前，通过 等离子处理设备将其打向基材膜表面，一方面，材料的长链状开放，并引发高能基团；与此同时，历经撞击使薄膜表面出现细小的凹陷，并能使表面的杂质分离，重解。
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